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第五届国际商标标志双年奖落幕科博会

  第五届国际商标标志双年奖颁奖典礼于2007年5月25日下午2时在科博会(中国国际展览中心)正式举行,本届颁奖仪式的主题仍为“设计立国”,这也是CCII十余年来所一直坚持的,本次颁奖选择科博会,依托国家平台,体现了国家对创意设计的高度重视与支持,该行为振奋了设计师的自信心,也为双年奖在新时期、新领域的发展上树立了新的里程碑。



  本次CCII展馆主要由五部分组成。1.第五届国际商标标志双年奖颁奖典礼;2.创意飓风ADC全球作品巡展;3.全蛋式创意营培训;4.“创意为公”合作计划;5.CCII理事单位及高级会员展。国际商标标志双年奖颁奖典礼作为首项活动打了个开门红,下午2时,深圳、台湾、香港、广州、上海等全国各地的获奖者纷纷赶到颁奖现场,为展场增添了热烈的气氛。本次颁奖嘉宾有CCII执行主席任、国际商标标志双年奖创始人任宝华先生,AGI会员、国际商标标志双年奖评委、中央美术学院学术带头人宋协伟先生。颁奖活动将科博会CCII展馆的气氛推向了高潮。

  以下是第五届国际商标标志双年奖颁奖仪式部分现场回顾。



CCII执行秘书长关守龙先生正式宣布颁奖仪式开幕,宣布获奖名单。

 

  接下来由CCII执行主席任、国际商标标志双年奖创始人任宝华先生对国际商标标志双年奖做详细阐述,他重点强调作品的原创性,只有原创的才是最有价值的,CCII将通过奖项、培训、认证等挖掘、培养更多的原创人才,这也是CCII十余年来“设计立国”的具体体现。



颁证仪式正式开始,由任宝华先生与宋协伟先生为获奖者颁奖。



左(CCII执行主席任宝华) 右(全场大奖及VIS类金奖获得者 蔡世伟)

  • 内容简介
  • 第五届国际商标标志双年奖颁奖典礼于2007年5月25日下午2时在科博会正式举行,本届颁奖仪式的主题仍为“设计立国”。
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