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第五届国际商标标志双年奖落幕科博会
- 来源-视觉中国
- 作者-
- 发表时间-2007-05-28 10:57:32
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全场大奖获得者蔡世伟先生表示，中国设计的发展还需要我们继续努力，他感谢CCII为大家提供这样一个权威的交流平台，为设计行业树立了标杆，不断的引领设计方向，这是一件非常伟大的事。希望我们能够继续坚持自己的理念，为中国设计走出一条成功之路。
颁证仪式完毕之后，所有获奖者进行了亲切的交流与签名活动，并合影留念。
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